도서명	ECR플라즈마 工程에 의해 製造된 無定型 실리콘 薄膜과 실리콘 酸化薄膜의 特性 = Characteristics of the a-Si:H and SiO2 thin films prepared by ECR plasma processes
저자	전법주
청구기호	570-전44ㅇ-TD
소장처	참고자료실
대출요구사항