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ECR플라즈마 工程에 의해 製造된 無定型 실리콘 薄膜과 실리콘 酸化薄膜의 特性 = Characteristics of the a-Si:H and SiO2 thin films prepared by ECR plasma processes
ECR플라즈마 工程에 의해 製造된 無定型 실리콘 薄膜과 실리콘 酸化薄膜의 特性 = Characteristics of the a-Si:H and SiO2 thin films prepared by ECR plasma processes
전법주 檀國大學校 大學院, 1997,
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