본문

  1. Home
78 Results:SS:PROC 0.85 sec.
RSS 
 การค้นหาขั้นสูง
 เดินทางมาถึงค้นหาวัสดุใหม่
พิมพ์ที่เลือก
1
디지털 영상처리 이론 및 구현 = Digital Image Processing : Visual C++ 접근 방법
디지털 영상처리 이론 및 구현 = Digital Image Processing : Visual C++ 접근 방법
이흥규 사이텍미디어, 2007,

Naver

โฟลเดอร์ของฉัน เนื้อหา
เพิ่มเนื้อหา
เพิ่มเนื้อหา
모체등록번호 딸림등록번호 서명 별치기호 자료상태 소장처
EM068739 AC005987 디지털 영상처리 이론 및 구현 CD 대출가능 대출실
EM068740 AC005988 디지털 영상처리 이론 및 구현 CD 대출가능 대출실
2
UML과 패턴의 적용 : 객체지향 분석 및 설계와 Unified Process에 대한 입문서
UML과 패턴의 적용 : 객체지향 분석 및 설계와 Unified Process에 대한 입문서
라맨, 크래이지 홍릉과학출판사, 2003,

Naver

โฟลเดอร์ของฉัน เนื้อหา
3
The Strategy process : Concepts, contexts, cases
The Strategy process : Concepts, contexts, cases
Mintzberg, Henry Prentice Hall, 2003,

Naver

โฟลเดอร์ของฉัน เนื้อหา
4
Signal processing applications in CDMA communications
Signal processing applications in CDMA communications
Liu, Hui Artech House, 2000,

Naver

โฟลเดอร์ของฉัน เนื้อหา
5
Adaptive signal processing for radar
Adaptive signal processing for radar
Nitzberg, Ramon Artech House, 1992,

Naver

โฟลเดอร์ของฉัน เนื้อหา
6
Database processing : Fundamentals, design, and implementation
Database processing : Fundamentals, design, and implementation
Kroenke, David M. Prentice Hall, 2001,

Naver

โฟลเดอร์ของฉัน เนื้อหา
7
The Writing process : A Concise rhetoric
The Writing process : A Concise rhetoric
Lannon, John M. Addison Wesley Longman, 2001,

Naver

โฟลเดอร์ของฉัน เนื้อหา
8
Poster session proceedings of the eleventh Asian regional conference of soil mechanics and Geotechnical engineering
Poster session proceedings of the eleventh Asian regional conference of soil mechanics and Geotechnical engineering
Korean Geotechnical Society Korean Geotechnical Society, 1999,
โฟลเดอร์ของฉัน เนื้อหา
9
American courts : process and policy
American courts : process and policy
Baum, Lawrence Houghton Mifflin, 1986,

Naver

โฟลเดอร์ของฉัน เนื้อหา
10
ECR플라즈마 工程에 의해 製造된 無定型 실리콘 薄膜과 실리콘 酸化薄膜의 特性 = Characteristics of the a-Si:H and SiO2 thin films prepared by ECR plasma processes
ECR플라즈마 工程에 의해 製造된 無定型 실리콘 薄膜과 실리콘 酸化薄膜의 特性 = Characteristics of the a-Si:H and SiO2 thin films prepared by ECR plasma processes
전법주 檀國大學校 大學院, 1997,
โฟลเดอร์ของฉัน เนื้อหา
처음12345678이후마지막